中國申請人在日本申請專利數(shù)量統(tǒng)計及分析
2017 年，面向日本的發(fā)明申請量比去年增加了9.5%；面向日本的實用新型的申請量比去年增加了1.8%；面向日本的外觀申請量比去年增加了39%。以下為近六年來中國國籍申請人在日本的申請量統(tǒng)計：
從上述2017 年的統(tǒng)計來看，中國國籍的申請人面向日本的申請量很明顯在增加。另外，2017 年美國國籍的申請人面向日本的商標申請件數(shù)為8789件（其中國際申請為3805件），和中國國籍申請人的本年度申請量接近。照此趨勢，2018 年中國國籍的申請人面向日本的商標申請量很有可能超過美國，成為首位。關于發(fā)明的申請件數(shù)，中國國籍的申請人面向日本的發(fā)明申請件數(shù)為4172 件，而美國國籍的申請人面向日本的發(fā)明申請件數(shù)為23949 件，為中國的5.7倍，預計上述差異將逐年減少。